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福建中伟半导体获得高效整理洗刷设备专利可进步清洗功率

时间: 2024-12-05 23:10:29 |   作者: 翻抛机

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  金融界2024年10月25日音讯,国家知识产权局信息数据显现,福建中伟半导体资料有限公司获得一项名为“一种高效整理洗刷设备”的专利,授权公告号CN 221861589 U,请求日期为2023年12月。

  专利摘要显现,本实用新型触及清洗技术领域,且公开了一种高效整理洗刷设备,包含水槽,水槽的顶部设有支撑框,支撑框的顶部设有电机,电机的一侧喷水设备,支撑框的一端吹风设备,支撑框的顶部内壁上设置有间歇滚动设备,水槽的上端设有吊杆,吊杆的一侧设有放置器,该实用新型能够一次对多片晶圆进行整理洗刷,并且在清洗后直接进行烘干,防止费时吃力,一起防止晶圆在屡次转移时产生损坏,进步清洗功率。

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